CVD

OSK 93TI161 1200℃急速熱CVD（RTCVD）管状炉（加熱⾧:300mm)

RTCVD炉は、急速加熱技術により前駆体ガスから超高純度薄膜を精密成長させる装置で、短時間熱サイクルによって不純物拡散や欠陥生成を最小化し、優れた純度・均一性を実現します。型番：OSK 93TI161 ◎特徴◎ ◎仕様 […]

CVD（化学気相成長）装置は、加熱部（管状炉）、ガス供給系（質量流量計またはフロート流量計）、真空系、冷却系で構成されます。本装置は、気体（蒸気）状態の原料から基板上に、薄膜を成膜する化学気相成長プロセスであり、成膜中に […]