最高温度1700℃

OSK 33LK-CSシリーズ CVDシステム

CVD（化学気相成長）装置は、加熱部（管状炉）、ガス供給系（質量流量計またはフロート流量計）、真空系、冷却系で構成されます。本装置は、気体（蒸気）状態の原料から基板上に、薄膜を成膜する化学気相成長プロセスであり、成膜中に […]

OSK 33LK-RT14は、最大1400℃対応の高性能回転管式炉で、各ゾーン独立制御と回転・傾斜機能を備えた連続熱処理に最適なモデルです。ムライト管および310Sステンレス管の両方に対応し、幅広い熱処理ニーズに柔軟 […]

真空または各種雰囲気での焼結・アニール・ろう付けに対応したチューブ炉。石英管またはアルミナ管、真空フランジ、機械式圧力計を標準装備。型番：OSK 33LK-Tシリーズ ◎特徴◎ 　　 ◎仕様◎ 型番　OSK […]

高純度セラミックファイバー断熱材と30セグメントPID温度制御を採用した汎用チャンバー炉。型番：OSK 33LK-Mシリーズ ◎特徴◎ ◎仕様◎ 型番　OSK 33LK M-12 M-14 M-17 最高温度 […]

本装置は、窒素・アルゴンなどの不活性ガスを連続導入することで、加熱中の材料を酸化および脱炭から保護することができます。大学の研究機関、金属材料、セラミックの焼結・溶融、小型鋼材などの加熱・焼成・熱処理用途に広く使用されて […]

金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気での真空焼結とアニールの熱処理に対応する高真空炉です。炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な熱 […]

不活性ガス雰囲気下での物質合成用に設計され、温度均一性に優れている雰囲気炉です。不活性ガスまたは酸化性ガスを必要とする新材料の調製に理想的な加熱装置です。型番：OSK 97TG 17LVC ◎特長◎ ・気密性と保温性が […]

不活性ガス雰囲気下での物質合成用に設計され、温度均一性に優れている雰囲気炉です。不活性ガスまたは酸化性ガスを必要とする新材料の調製に理想的な加熱装置です。型番：OSK 97TG 14LVC 特長仕様 PDFカタログ […]