型番:PureLab HE 2GB
◎特徴(システム概略)◎
Innovative Technology, Inc.社のPureLab HE は
高性能の不活性ガス精製装置付グローブボックスで、
特に時間管理や最大効率が求められる製作や
大規模な研究用途向けに設計されました。
すべてのPureLabブランドは品質保証手段に基づいて
製作され、スウェージロック社のバルブ及び取り付け具、
エドワード社のポンプ、アレンブラッドリー社のPLC
制御を使用しています。
PureLab HE グローブボックスシステムはモジュラー
方式のシステムですので、目的に応じて後から
拡張することも可能です。
追加のアンティチャンバー、冷蔵庫、真空オーブン、
炉、その他様々なアクセサリー類をご用意しております。
PureLab HEガス精製装置は大気に敏感な
アプリケーションに必要とされる不活性雰囲気を作り
水分・酸素共に1ppm以下に致します。
◎標準付属品(装備)◎
- ステンレスス(US Type 304)構造
- モジュラー式
- ガス配管・金具=オールステンレス
- パワーストリップ付フィードスルー
- ガス・真空フィードスルー
- マニュアル圧力コントロール用フットペダル
- 本体前面外側上部に装着の蛍光灯
- MR-10 レクサン窓材
- テフロングローブポート
- 粉体塗装
- カラータッチスクリーン
- ガス精製装置 酸素・水分共に<1ppm
- 大容量真空チャンバー
- 回転翼型真空ポンプ
- 0-60CFM可変循環システム
- 自動再生
- 自動圧力制御
- 自動カラムバルブ
- 可動棚
- ロック付レベルキャスター
- パワーストリップ
◎オプション(アクセサリー)◎
- 酸素計
- 水分計
- 冷蔵庫-35℃
- 自動パージバルブ
- 自動アンティチャンバー制御
- 有機溶剤除去システム
- コールドウェル
- 二塔精製カラム
- ビデオ顕微鏡
- スピンコーター
- 薄膜蒸発器・スパッタリング装置
- 有機溶剤精製装置
- ドライ真空ポンプ
- 真空オーブン・炉
- グローブボックスクーリング
◎仕様◎
グローブボックス |
・構造:モジュラー式 ・内寸:1250mm(W)×900mm(H)×780mm (D) ・材質:ステンレススティール(US Type 304) ・内装:機械研磨 ・外部表面:粉体塗装 ・スタンド:粉体塗装、レベル付キャスター ・電気フィードスルー:NW-40 ・棚:3段、高さ調節可能、ステンレススティール(US Type 304) ・グローブポート:テフロン、耐薬品性 ・グローブ:ブチル、サイズ・材質は各種有り(オプション) ・窓:MR-10レクサン、厚み 3/8″、耐薬品性、多層ガラス(オプション) ・蛍光灯:前面外側上部に装備 ・漏出量:<0.05 vol%/時 (ISO 10648-2)工場出荷前検査 ・漏出量:<0.05 vol%/時 (ISO 25412)工場出荷前検査 |
コントロールシステム |
・アレンブラッドリー社 MicroLogix 1200 PLC (Programmable Logic Controller) ・カラータッチスクリーン:6インチ ・データロギング:ご要望により可 ・酸素&水分表示:ご要望により可 ・ボックス圧力調整用フットペダル ・電源:100V/50-60Hz, 20A |
ガス精製装置 |
・精製到達度:酸素・水分共に<1ppm ・使用ガス:窒素・アルゴン・ヘリウム ・吸収量:酸素30L、水分1300g ・再生:完全自動、PLC制御 ・再生ガス:N2/H2混合(3-7%H2)またはAr/H2混合(3-7%H2) ・真空ポンプ:回転翼型、6.9CFM、自動バラスト制御 ・配管:ステンレススティール(溶接、US Type 304) ・取付金具:ステンレススティール(US Type 304) ・精製塔バルブ:NW-40 ・制御バルブ:マグネティック ・漏出量:<0.05 vol%/時 (ISO 10648-2) |
循環装置 |
・0-60 CFM ・スピード可変-PLC制御 ・密閉エンクロージャー ・振動ベース |
アンティチャンバー |
・円筒型アンティチャンバー ・内寸:直径390mm、長さ600mm ・材質:ステンレススティール(US Type 304) ・内装:機械研磨 ・外装:粉体塗装 ・ドア:持ち上げ式、材質:陽極酸化アルミ ・ドアロック:ガスピストン付スピンドルロック ・スライドトレイ:ステンレススティール (US Type 304) ・制御:手動、自動アンティチャンバー制御(ご要望により可) ・漏出量:<0.05vol%/時 (ISO 10648-2) |
◎お問い合わせ◎
この製品についてのお問い合わせはこちらのメールアドレスまで
E-mail: osk.af@rondo.ocn.ne.jp