撹拌と加熱が同時にできる反応温度・pH・撹拌・試薬滴下を統合制御し、反応スクリーニングから反応条件最適化、プロセス開発、スケールアップ検討まで支援するモジュール式化学合成用リアクターです。
多検体並列評価、連続データ取得、自動運転に対応し、医薬・ファインケミカル・機能性材料研究における再現性の高い実験設計を実現します。
型番：OSK 50WQ CS301
◎特徴◎
- 反応条件の再現性を求め温度・pH・撹拌・滴下を統合制御できます。
- 多様な容量に対応、反応スクリーニングからプロセス開発まで活用できます。
- 最大4台の独立ユニットを並列管理により複数処方に対応できます。
- ジャケット温度制御のみならず反応液温度制御が可能です。
- 冷却装置追加によりｰ40℃から150℃までの低温から加熱反応まで広い温度域をカバー。
- 250ｍLまたは50ｍLリフィル可能なシリンジでシングル・ダブル自動滴下可能。
- リアルタイムデータ取得、ネットワーク接続を活用し、夜間・休日を含む長時間反応監視を省力化。
◎仕様◎
| 型番 | OSK 50WQ CS301 |
|---|---|
| 用途 | 化学合成、反応条件検討、反応スクリーニング、プロセス最適化、スケールアップ検討、結晶化・析出・重合・触媒反応の研究開発 |
| リアクター構成 | モジュール式ジャケット反応器／バイアル対応型反応ステーション |
| 対応容器 | バイアル用構成、100 mL丸底ガラス反応器、400 mL丸底ガラス反応器 |
| 反応容量 | 構成により選択。バイアルから400 mL反応器まで対応 |
| 温度制御範囲 | -30～+150℃、チラー接続時：-40℃～+150℃ |
| 温度制御分解能 | 0.1 K |
| 温度制御方式 | ジャケット温度制御、反応液温度制御 |
| 温度測定 | 反応温度（Tr）およびジャケット温度（Tj）のリアルタイム監視 |
| 攪拌方式 | 磁気撹拌、メカニカル撹拌（オプションのオーバーヘッドスターラー使用時） |
| 攪拌速度範囲 | 50～1,000 rpm |
| 攪拌翼 | PTFE製インペラー、用途に応じて複数形状を選択可能 |
| ｐH測定・制御 | pH電極接続による連続pHモニタリング。酸・塩基の自動滴下によるpH制御に対応可能 |
| 試薬滴下 | シングルまたはダブル滴下ユニットに対応 |
| 並列反応機数 | 最大4台の独立反応ユニットを接続・集中管理可能 |
| 制御インターフェース | タッチ式専用制御パネルによる操作・監視 |
| データ取得 | 反応温度、ジャケット温度、pH、撹拌および滴下条件等のリアルタイムデータ取得 |
| データ保存・転送 | USBメモリ、Ethernet（LAN）接続 |
| 対応ソフトエア | ERMESクラウド接続、ControllerSoft PCソフトウェアに対応 |
| 外部接続 | USB Type-A、Ethernet（LAN）、BNC（pH電極）、RS-232（滴下ユニット）、RS-485（増設ユニット／Control Pad）、LEMO（Pt100温度センサ、オーバーヘッドスターラー） |
| 冷却媒体接続 | 冷却水またはチラー接続用ホース接続部：φ8 mm |
| パージ接続 | 乾燥空気または窒素ガス用プッシュイン継手：φ4 mm |
| 設置環境 | ドラフトチャンバー内または十分な換気・排気設備を備えた化学実験室での使用を推奨 |
| 外形寸法（W×D×H） | ジャケット反応機：232×326×281mm、システム：287×486×600mm |
| 重量 | 反応ユニット：約10.32kg、システム構成時：約12.33㎏ |
| 電源 | 単相AC115V 50/60HzまたはAC230V 50/60Hz |
| 安全上の留意点 | 可燃性溶媒、腐食性試薬、高圧反応、毒性ガス発生反応などについては、反応条件に応じたドラフト、パージ、保護具および安全管理が必要 |
※上記の温度下限、容器構成、撹拌方式、 pH制御、滴下機能およびソフトウェア接続は、選択するアクセサリおよびシステム構成によって異なります。 見積時には、予定する反応容量、溶媒、粘度、温度領域、滴下液量、窒素パージの要否、および自動化要件を明示して構成確認を行ってください。
◎標準構成品◎
- OSK 50WQ CS301ｘ１台
- 電源ケーブル 1本
- 取扱説明書 ｘ１部
- 保証書 ｘ１部
◎オプション◎
・構成支援サイト（英文）： https://go.velp.com/chemsynt-301-chemical-reaction-station-configurator
・電源変圧器
